日本顶尖的综合性化学公司之一的昭和电工公司(SDK)5月20日称,该公司已开发出上可生产包含异氰酸和丙烯酸两个基因的单体的工业化生产工艺。

    该公司称,这种新开发的单体与传统异氰酸酯单体相比,用于照相排版有更高速率,SDK公司已开始以Karenz AOI商品名称,并且作为样品供货用于电子和印刷行业。

    异氰酸酯单体通常更多的是与不同类型聚合物反应,得到不同的功能,其中包括照相排版功能。

    迄今为止,SDK公司所提供的Karenz MOI单体具有高反应性,含有异氰酸酯和甲基丙烯酸基因,能使不同功能化合物在用可见光、紫外线和电子束曝光时更易固化。 Karenz MOI单体已广泛应用于各电子领域,如液体光致抗蚀剂、薄膜光致抗蚀剂和粘合剂,以及也应用于印刷领域。

    这种新开发单体是唯一含有丙烯酸基因和异氰酸基因的单体.而Karenz MOI单体包含一个甲基丙烯酸基因和异氰酸基因。

    这种化学机构变化导致照相排版有更高的速率。

    SDK公司称,该公司将进一步开发更多异氰酸酯单体新品种,目标到2009年销售额达到20亿日元(1770万美元/1480万欧元).